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KS-S150星型全自動涂膠顯影機(jī)用于LED-PSS工藝的涂膠顯影制程及化合物半導(dǎo)體的涂膠顯影等制程?？杉嫒菟{(lán)寶石、砷化鎵和碳化硅等材質(zhì)的晶圓，產(chǎn)品涉及多個應(yīng)用領(lǐng)域，涂膠機(jī)產(chǎn)能大于190片/小時。設(shè)備通過了CSA認(rèn)證。

KS-FT200/300系列堆疊式高產(chǎn)能前道涂膠顯影機(jī)，為我司自主研發(fā)的突破晶圓前道28nm工藝節(jié)點及以上工藝制程，適用于ArF、KrF、I-Line、PI、BARC，SOC，SOD，SOG等多種材料涂覆顯影工藝的機(jī)臺。支持與光刻機(jī)聯(lián)機(jī)作業(yè)。該系列機(jī)臺通過各種行業(yè)認(rèn)證，占地面積小、可靠性高、易于維護(hù)，滿足各種功能芯片制程需求。

市場和應(yīng)用 用于電池、太陽能和柔性電子產(chǎn)品的功能性原子層沉積涂層。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應(yīng)用的理想選擇。 各種類型鋰離子和固態(tài)電池的陰極和陽極的鈍化 用于柔性太陽能電池的導(dǎo)電層和封裝 用于柔性電子產(chǎn)品的防潮層

超快速、高精度空間原子層沉積鍍膜 Beneq C2R 是我們集群兼容設(shè)備系列的空間 ALD 成員。 Beneq C2R 將等離子體增強(qiáng)原子層沉積 （PEALD） 工藝提升到一個全新的水平 – PEALD 可用于大批量生產(chǎn)。由于采用等離子體增強(qiáng)旋轉(zhuǎn)原子層沉積工藝，Beneq C2R 是厚原子層沉積膜的理想選擇，甚至可達(dá)幾微米。

TFS 500 是薄膜鍍膜應(yīng)用的理想選擇。作為第一個 Beneq 反應(yīng)器模型，已被證明是用于深入研究原子層沉積研究和穩(wěn)健批處理的多功能工具。TFS 500 是多項目環(huán)境的理想工具。

Beneq TFS 200 是有史以來最靈活的原子層沉積研究平臺，專為學(xué)術(shù)研究和企業(yè)研發(fā)而設(shè)計。Beneq TFS 200 經(jīng)過專門設(shè)計，可最大限度地減少多用戶研究環(huán)境中可能發(fā)生的任何交叉污染。大量的可用選項和升級意味著您的 Beneq TFS 200 將與您一起擴(kuò)展，以滿足研究要求。