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ACS300 Gen3作為模塊化系統(tǒng)，是為滿足量產(chǎn)環(huán)境而專門(mén)設(shè)計(jì)的。它提供了復(fù)雜的涂膠、顯影和烘烤功能，可輕松地適應(yīng)各種工藝。其的工藝控制，有效地支持廣泛的使用領(lǐng)域。結(jié)合這一優(yōu)點(diǎn)，再加上有8個(gè)旋涂器模塊，該系統(tǒng)仍然是市面上占地面積最小的系統(tǒng)；這些品質(zhì)都有利于減小購(gòu)置成本，使得該設(shè)備對(duì)于任何具有挑戰(zhàn)性的先進(jìn)封裝應(yīng)用(如圓片級(jí)芯片封裝、扇出圓片級(jí)封裝、銅柱倒裝芯片封裝和3D封裝)

掩模的完整性對(duì)高標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝的成功起主要作用。MaskTrack Pro 掩膜自動(dòng)處理系統(tǒng)滿足下一代光刻節(jié)點(diǎn)在掩模清洗、烘烤和顯影工藝方面的所有標(biāo)準(zhǔn)。它是應(yīng)對(duì) 193i 1x half-pitch DPT、極紫外光刻 (EUVL) 和納米壓印光刻 (NIL)高要求的創(chuàng)新解決方案。以創(chuàng)新技術(shù)最大限度地提高光掩模性能。 MaskTrack Pro 允許用第三方的產(chǎn)品擴(kuò)展工具集群，并提供一個(gè)全面的方法

對(duì)應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700 對(duì)應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線（NLD- neutral loop discharge）等離子源的量產(chǎn)用干法刻蝕裝置。（可實(shí)現(xiàn)產(chǎn)生低壓、低電子溫度、高密度的等離子）

干法刻蝕設(shè)備 APIOS NE-950EX 對(duì)應(yīng)LED量產(chǎn)用的干法刻蝕設(shè)備?NE-950EX?相對(duì)我司以往設(shè)備實(shí)現(xiàn)了140%的生產(chǎn)力。是搭載了ICP高密度等離子源和愛(ài)發(fā)科自有的星型電的干法刻蝕設(shè)備。

研究開(kāi)發(fā)向NLD干法刻蝕設(shè)備NLD-570 研究開(kāi)發(fā)向NLD干法刻蝕設(shè)備NLD-570，是搭載了愛(ài)發(fā)科磁性中性線（NLD- neutral loop discharge）等離子源的裝置，此NLD技術(shù)可實(shí)現(xiàn)產(chǎn)生低壓、低電子溫度、高密度的等離子。

高密度等離子刻蝕裝置ULHITETM NE-7800H 高密度等離子客戶裝置ULHITE NE-7800H是對(duì)應(yīng)刻蝕FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等器件所用的高難度刻蝕材料（強(qiáng)電介質(zhì)層、貴金屬、磁性膜等）的Multi-Chamber型低壓高密度等離子刻蝕設(shè)備。