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全自動(dòng)單軸減薄機(jī)是一款高精度、高效率的研削設(shè)備，專為半導(dǎo)體制造、硅片加工、光學(xué)材料處理及薄膜材料制備等領(lǐng)域設(shè)計(jì)。

由德國(guó)UNITEMP研發(fā)的用于 200 毫米（8 英寸）晶圓尺寸或 M10 182 x 182 毫米太陽(yáng)能硅片的快速退火爐RTP-200。

由德國(guó)UNITEMP研發(fā)符合高真空標(biāo)準(zhǔn)的快速退火爐，升溫速率高達(dá) 75 K/sec。，升溫速率高達(dá) 150 K/sec。主要特點(diǎn)：良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工藝周轉(zhuǎn)時(shí)間短、舒適的氣體控制、臺(tái)式系統(tǒng)，占地面積小。

由德國(guó)UNITEMP研發(fā)的真空快速退火爐RTP-150-EP，升溫速率高達(dá) 150 K/sec。主要特點(diǎn)：良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工藝周轉(zhuǎn)時(shí)間短、舒適的氣體控制、臺(tái)式系統(tǒng)，占地面積小。

由德國(guó)UNITEMP研發(fā)的快速退火爐RTP-150，升溫速率高達(dá) 75 K/sec。主要特點(diǎn)：良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工藝周轉(zhuǎn)時(shí)間短、舒適的氣體控制、臺(tái)式系統(tǒng)，占地面積小

由德國(guó)UNITEMP研發(fā)的符合高真空標(biāo)準(zhǔn)的快速退火爐，升溫速率高達(dá) 200 K/sec。主要特點(diǎn)：良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工藝周轉(zhuǎn)時(shí)間短、舒適的氣體控制、臺(tái)式系統(tǒng)，占地面積小