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當(dāng)前位置:首頁(yè)  >  產(chǎn)品中心  >  其他前道工藝設(shè)備  >  8 氧化設(shè)備、退火設(shè)備  >  customized激光退火設(shè)備

激光退火設(shè)備

簡(jiǎn)要描述:半導(dǎo)體激光退火機(jī)是用于半導(dǎo)體制造過(guò)程中的一種設(shè)備。退火是一種熱處理過(guò)程,通過(guò)加熱半導(dǎo)體材料來(lái)改變其性質(zhì),以實(shí)現(xiàn)所需的特性,如電導(dǎo)率、晶體結(jié)構(gòu)和應(yīng)力緩解。半導(dǎo)體激光退火機(jī)利用高能激光束來(lái)對(duì)半導(dǎo)體基片進(jìn)行精確和控制的加熱和修改。

  • 產(chǎn)品型號(hào):customized
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間:2024-09-06
  • 訪  問(wèn)  量: 1324

詳細(xì)介紹

1. 產(chǎn)品概述

半導(dǎo)體激光退火機(jī)是用于半導(dǎo)體制造過(guò)程中的一種設(shè)備。退火是一種熱處理過(guò)程,通過(guò)加熱半導(dǎo)體材料來(lái)改變其性質(zhì),以實(shí)現(xiàn)所需的特性,如電導(dǎo)率、晶體結(jié)構(gòu)和應(yīng)力緩解。半導(dǎo)體激光退火機(jī)利用高能激光束來(lái)對(duì)半導(dǎo)體基片進(jìn)行精確和控制的加熱和修改??啥ㄖ?,如有需求請(qǐng)聯(lián)系。

2. 設(shè)備特點(diǎn)

應(yīng)用范圍:對(duì)重?fù)诫s碳化硅(SiC)表面沉積的過(guò)渡金屬進(jìn)行退火,形成良好的歐姆接觸

加工尺寸:4inch、6inch

加工速度:1000mm/s

加工精度:±1μm平臺(tái)參數(shù):行程300mm×300mm

重復(fù)定位精度:±0.001mm

激光器參數(shù):紫外

稼動(dòng)率:98%以上

重大故障間隙時(shí)間:>1000H

良率:≥99.5%

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