Veeco 離子束蝕刻的優(yōu)勢

離子束蝕刻是一種成熟的技術，可用于在大批量生產環(huán)境中制造先進的薄膜器件。然而，研發(fā)和中試線生產環(huán)境都在不斷創(chuàng)新下一代MEMS、磁傳感器和數(shù)據(jù)存儲設備，這些設備也依賴于具有行業(yè)最佳性能規(guī)格的高性能蝕刻系統(tǒng)。Veeco 目前在全球安裝了 300 多個離子束蝕刻系統(tǒng)，支持薄膜器件應用。

新型 Lancer IBE 系統(tǒng)

新型 Lancer™ 離子束蝕刻 （IBE） 系統(tǒng)專為開發(fā)和生產智能手機、自動駕駛汽車和其他可實現(xiàn)連接性、功能性和移動性的“物聯(lián)網(wǎng)"設備中的下一代電子設備而設計。

Lancer系統(tǒng)提供了在研發(fā)和生產環(huán)境中可以達到的設備質量，包括：

• 的系統(tǒng)性能和功能

• 與前幾代 IBE 相比，單模塊配置減少了占用空間

• 經(jīng)過生產驗證的技術，目前擁有龐大的安裝基礎

• 擁有專用流程和技術專業(yè)知識的大型應用數(shù)據(jù)庫

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