激光光刻機

簡要描述：DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對工業(yè)級灰度光刻進行了優(yōu)化，設計用于集成電路、MEMS、微光學和微流體器件、傳感器、全息圖以及防偽特征的掩模和晶圓的高通量圖案化。

專業(yè)灰度光刻模式可以在大面積的厚光刻膠中對復雜的 2.5D 結(jié)構(gòu)進行圖案化。最小特征尺寸為 500 nm，寫入?yún)^(qū)域最大為 400 x 400 mm

產(chǎn)品型號：DWL 2000 GS / DWL 4000 GS
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時間：2025-06-05
訪問量： 671

產(chǎn)品咨詢聯(lián)系我們

產(chǎn)品分類

Product Category

詳細介紹

寫入模式	我	第二	第三	四	V
寫作性能 - 灰度
覆蓋層 [3σ， nm]（超過 8“ x 8"）			300
像素網(wǎng)格灰度 [nm]	100	200	250	500	1000
寫入速度 DWL 2000 GS [mm2/分鐘]	12	50	75	270	870
寫入速度 DWL 4000 GS [mm2/分鐘]	12	50	75	270	1000
暴露時間 DWL 2000 GS：適用于 200 mm x 200 mm [小時]	51	13.5	9	2.5	0.8
曝光時間 DWL 4000 GS：適用于 400 mm x 400 mm [小時]	223	54	36	10	3
最大劑量 [mJ/cm2 ]	5600	1400	900	225	50

寫入性能 - 二進制
最小特征尺寸 [μm]	0.5	0.7	0.8	1	2
最小行數(shù)和間距 [μm]	0.7	0.9	1	1.5	3
地址網(wǎng)格 [nm]	5	10	12.5	25	50
邊緣粗糙度 [3σ， nm]	40	50	60	80	110
CD均勻度 [3σ， nm]	60	70	80	130	180
注冊 [3σ， nm]	200	200	200	200	200
寫入速度 [mm2/minute] DWL 2000 GS	12	50	75	270	870
寫入速度 [mm2/minute] DWL 4000 GS	12	50	75	270	1000

系統(tǒng)特點
光源	405 nm 的二極管激光器
最大基板尺寸	DWL 2000 GS：9 英寸 x 9 英寸 / DWL 4000 GS：17 英寸 x 17 英寸
基板厚度	0 至 12 mm
最大曝光面積	DWL 2000 GS：200 x 200 平方毫米 / DWL 4000 GS：400 x 400 平方毫米
溫控流量箱	溫度穩(wěn)定性 ± 0.1°，ISO 4 環(huán)境
實時自動對焦	光學自動對焦或氣壓計自動對焦
自動對焦補償范圍	80微米

系統(tǒng)尺寸
光刻單元（寬度×深度×高度）;重量	2350 毫米× 1650 毫米× 2100 毫米;3000 千克
電子架（寬度×深度×高度）;重量	800 毫米× 600 毫米× 1800 毫米;180 千克

安裝要求
電氣	400 VAC ± 5 %， 50/60 赫茲， 16 A
壓縮空氣	6 - 10 巴
潔凈室	建議使用 ISO 6 或更高