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激光掩模光刻機

簡要描述:ULTRA激光掩模光刻機 是專門用于成熟半導體光掩模的合格激光掩模機。半導體光掩模用于制造電子設備,包括微控制器、電源管理、LED、物聯網 (IoT) 和 MEMS。

ULTRA 是一種經濟型光刻機解決方案,具有高吞吐量、精度和結構均勻性以及極其精確的對準所需的所有特性和功能。標準配置包括全自動掩模處理、Zerodur® 平臺、低失真光學元件和高精度位置控制等功能。

  • 產品型號:ULTRA
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2024-09-04
  • 訪  問  量: 305

詳細介紹

產品概述:

ULTRA半導體光掩模光刻機是門用于成熟半導體光掩模的合格激光掩模機。半導體光掩模用于制造電子設備,包括微控制器、電源管理、LED、物聯網 (IoT) 和 MEMS。

操作


用戶界面(軟件)

 

半兼容 GUI

大寫入區(qū)域

228 x 228 mm2 (可根據要求提供其他尺寸)

基板尺寸

4 英寸、5 英寸、6 英寸、7 英寸和 9 英寸口罩(可根據要求提供更大的和其他基材)



 

系統特點


光學

0.9 NA物鏡
低失真紫外光學元件
自動校準程序

激光

355nm波長的高功率二管泵浦固體激光器

對焦系統

實時光學自動對焦

對準

攝像系統
失真補償
全局和逐場對準
邊緣檢測器

數據路徑

 

實時壓縮
可擴展的硬件概念
輸入格式:所有標準格式,例如 GDSII 和 Jobdeck

空間光調制器

 

頻率 350 kHz
數據速率 2.4 GB/s

自動化

 

全自動口罩處理,帶兩個大 9 英寸的輸送站;可選的 SECS/GEM 協議



 

系統尺寸

 

系統 / 電子機架

 

寬度 [mm]

2995 / 800

 

深度 [mm]

1652 / 650

 

高度 [mm]

2102 / 1800

 

重量 [kg]

3400 / 180



 

安裝要求


電氣

400 VAC ± 5%,50/60 Hz,16A,3 相

壓縮空氣

7 - 10 bar (不含油或其他殘留物)

 




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