国产欧美久久一区二区三区-国产av一区二区三区色噜噜-中文字幕在线亚洲一区-日韩欧美高清在线一区二区

歡迎來到深圳市矢量科學儀器有限公司網(wǎng)站！
咨詢熱線

當前位置：首頁  >  產(chǎn)品中心  >  半導體前道工藝設備  >  3 CVD  >  PlasmaPro 100 Nano等離子增強化學氣相沉積

等離子增強化學氣相沉積

簡要描述：PlasmaPro 100 Nano
用于生長1D / 2D納米材料和異質結構的CVD / PECVD工具。 PlasmaPro 100 Nano通過在線催化劑活化和嚴格的工藝控制，實現(xiàn)納米材料的高性能生長。

  • 產(chǎn)品型號：PlasmaPro 100 Nano
  • 廠商性質：經(jīng)銷商
  • 更新時間：2025-06-05
  • 訪  問  量： 406

詳細介紹

  • 更佳的均勻性以及靈活的溫度范圍， 最高可達1200°C

  • 700°C、800°C或1200°C工作臺可供選擇

  • 樣品尺寸可達200mm

  • 真空傳送腔——快速更換樣品

  • 冷壁設計并輔以可均勻輸送氣體/液體源前驅體的噴頭

  • 可選的液體/固體源前驅體輸送系統(tǒng)，用于生長MOS2、MOSe2和其它TMDCs材料

應用：

  • 二維材料 生長

  • MoS2 生長

  • 石墨烯 生長

  • 一維材料 生長

  • 碳納米管（CNT）生長

  • 氣柜 —— 包含額外的氣體管線，提供更大的靈活性

  • 渦輪分子真空泵 —— 提供泵送速度加快氣體的流動速度

  • 光學終點探測—— 實現(xiàn)更好工藝結果的重要工具

  • TEOS液位傳感 —— 使用安裝在TEOS罐上的超聲波液位傳感器實現(xiàn)液位傳感




產(chǎn)品咨詢

留言框

  • 產(chǎn)品：

  • 您的單位：

  • 您的姓名：

  • 聯(lián)系電話：

  • 常用郵箱：

  • 省份：

  • 詳細地址：

  • 補充說明：

  • 驗證碼：

    請輸入計算結果（填寫阿拉伯數(shù)字），如：三加四=7