国产欧美久久一区二区三区-国产av一区二区三区色噜噜-中文字幕在线亚洲一区-日韩欧美高清在线一区二区

歡迎來到深圳市矢量科學儀器有限公司網站!
咨詢熱線

當前位置:首頁  >  產品中心  >  半導體前道工藝設備  >  2 PVD  >  線列式磁控濺射薄膜沉積系統

磁控濺射薄膜沉積系統

簡要描述:產品概述:
磁控濺射薄膜沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結構,采用行業(yè)的軟件控制系統。
設備用途:
用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。

  • 產品型號:線列式
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2024-09-05
  • 訪  問  量: 292

詳細介紹

1.產品概述:
本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結構,采用行業(yè)的軟件控制系統。
2.設備用途:
用于納米單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。例如可用于制備各種功能性薄膜,如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜;適用于微電子域;在光學域,可用于制備增透膜、低輻射玻璃和透明導電玻璃等;在機械加工行業(yè)中,可沉積表面功能膜、超硬膜、自潤滑薄膜等,以提高表面硬度、復合韌性、耐磨損性和抗高溫化學穩(wěn)定性能;還可應用于高溫超導薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發(fā)光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜等的研究。

3.真空室:
真空室結構:長方形側開門
真空室尺寸:1100X700X350mm
限真空度:≤6.0E-5Pa
沉積源:磁控靶尺寸:450X80mm、向上濺射,每個真空室配2個靶位
樣品尺寸,溫度:300X400mm;高溫度300度
占地面積(長x寬x高):約6米×3米×2米(設計待定)
電控描述:全自動
工藝:設計待定









產品咨詢

留言框

  • 產品:

  • 您的單位:

  • 您的姓名:

  • 聯系電話:

  • 常用郵箱:

  • 省份:

  • 詳細地址:

  • 補充說明:

  • 驗證碼:

    請輸入計算結果(填寫阿拉伯數字),如:三加四=7