1.產(chǎn)品概述：

掩模的完整性對(duì)高標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝的成功起主要作用。MaskTrack Pro 掩膜自動(dòng)處理系統(tǒng)滿足下一代光刻節(jié)點(diǎn)在掩模清洗、烘烤和顯影工藝方面的所有標(biāo)準(zhǔn)。它是應(yīng)對(duì) 193i 1x half-pitch DPT、紫外光刻 (EUVL) 和納米壓印光刻 (NIL)高要求的創(chuàng)新解決方案。以創(chuàng)新技術(shù)大限度地提高光掩模性能。

2.產(chǎn)品優(yōu)勢：

MaskTrack Pro 允許用第三方的產(chǎn)品擴(kuò)展工具集群，并提供一個(gè)方法，在全控、高潔環(huán)境中存儲(chǔ)、處理和加工光掩模。模塊化設(shè)計(jì)確保其具有高度的靈活性并能高度適應(yīng)客戶的要求。MaskTrack Pro 在次運(yùn)行就能提供佳的清潔效果。

3.產(chǎn)品工藝：

物理清洗：

該系統(tǒng)為濕法清洗提供多種物理力技術(shù)，包括高可達(dá)3個(gè)的預(yù)清洗與終清洗腔室，用于剝離隔離、預(yù)清洗和終清洗工藝。

原位紫外表面處理與清洗技術(shù)

頻率高達(dá)4 MHz的高頻雙兆聲波清洗

精密的納米二元噴霧

聚焦點(diǎn)清洗

化學(xué)清洗：

DIW-H20脫氣，用于控制兆聲波工藝中的空化控制

超潔凈的冷/熱CO2-DI水

臭氧DI水和pH值穩(wěn)定的電解H2

超稀釋的SC1

用于進(jìn)一步減少圖案損傷的堿基新介質(zhì)

15 nm工藝介質(zhì)過濾間