1.產(chǎn)品概述
全封閉式桌面顯影機是一種高效、精準的實驗室設備，主要用于各種材料的顯影處理。其全封閉式設計能夠有效防止顯影液揮發(fā)和污染，確保實驗環(huán)境的清潔和安全。同時，桌面型設計使得設備占地面積小，便于移動和放置，適用于各種實驗室環(huán)境。
2.產(chǎn)品特點

全封閉式設計：避免顯影液揮發(fā)和霧氣擴散到外部，保護環(huán)境，減少對人體健康的危害。
耐腐蝕材質(zhì)：外殼噴塑處理，耐腐蝕、易清洗；內(nèi)腔采用不銹鋼材質(zhì)，鏡面拋光處理，光滑、耐腐蝕、易清洗。
內(nèi)置真空過濾器：防止液體吸入真空泵，保護設備免受損壞。
可調(diào)真空壓力：真空壓力可調(diào)，壓力值實時顯示，滿足不同實驗需求。
可調(diào)液體流量：液體流量可調(diào)，回吸可調(diào)，確保顯影過程的精確控制。
廣泛適用性：適用于多種尺寸的wafer，從碎片到200mm（8"圓晶）均可處理。
高精度控制：轉(zhuǎn)速分辨率高，旋涂速度和加速度可調(diào)，工藝時間設定精確。
3.應用域

全封閉式桌面顯影機廣泛應用于高封裝、MEMS（微機電系統(tǒng)）、LED（發(fā)光二管）等市場域。此外，它還可用于醫(yī)療衛(wèi)生、化工、能源、電子等多個行業(yè)的實驗室中，進行各種材料的顯影處理。
4.產(chǎn)品參數(shù)

產(chǎn)品型號：DM200-SE
品牌：LEBO/雷博
產(chǎn)地：中國（江蘇江陰）
材質(zhì)：外殼噴塑，內(nèi)腔不銹鋼
尺寸：550mm (W) x 600mm (D) x 405mm (H)
支持wafer尺寸：碎片至200mm(8"圓晶)
轉(zhuǎn)速分辨率：±1 RPM
旋涂速度：20-3000rpm（空載）
旋涂加速度：20-10,000rpm/sec（空載）
工藝時間設定：0-3,000sec/step，時間設置精度：0.1sec