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  • H6-23勻膠機(jī)

    laurell的H6-23型的勻膠機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊,具有優(yōu)良的功能,設(shè)計為最容易安裝在手套箱中的旋涂機(jī)。這款 650 系列 HL 涂布機(jī)系統(tǒng) 將 可容納最大 150mm 晶圓和 5 英寸 × 5 英寸 (127mm×127mm)基板, 最大轉(zhuǎn)速為 12,000 RPM (基于ø00mm硅片)。

    更新時間:2024-09-05
    型號:H6-23
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:238
  • H6-8勻膠機(jī)

    H6-8型勻膠機(jī)機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊,具有優(yōu)良的功能,設(shè)計為最容易安裝在手套箱中的旋涂機(jī)。這款 650 系列 HL 涂布機(jī)系統(tǒng) 將 可容納最大 200mm 晶圓和 7 英寸 × 7 英寸 (178mm×178mm)基板, 最大轉(zhuǎn)速為 12,000 RPM (基于100mm硅片)。

    更新時間:2024-09-05
    型號:H6-8
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:268
  • Propel 300mm GaN金屬化學(xué)氣相沉積MOCVD

    用于 5G、光子學(xué)和 CMOS 的 Propel 300mm GaN MOCVD 系統(tǒng) 全自動單晶圓簇系統(tǒng)可在 300 毫米基板上生產(chǎn) 5G 射頻、光子學(xué)和高級 CMOS 器件。

    更新時間:2024-08-13
    型號:Propel 300mm GaN
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:485
  • Propel HVM GaN金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積

    Propel HVM GaN MOCVD 系統(tǒng),用于電源、5G 射頻和光子學(xué),單晶圓反應(yīng)器技術(shù)為電源、5G 射頻和光子學(xué)應(yīng)用提供高效、高質(zhì)量的氮化鎵基器件

    更新時間:2024-09-05
    型號:Propel HVM GaN
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:392
  • Genesis ALD原子層沉積ALD

    用于電池、太陽能和柔性電子產(chǎn)品的功能性原子層沉積涂層。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應(yīng)用的理想選擇。

    更新時間:2024-09-05
    型號:Genesis ALD
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:379
  • Lumina AS/P金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積設(shè)備

    適用于光電應(yīng)用的 Lumina AS/P 金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積 (MOCVD) 系統(tǒng)

    更新時間:2024-09-05
    型號:Lumina AS/P
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    瀏覽量:265
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