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產(chǎn)品概述： 高真空磁控濺射與離子束復合薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結構，采用可行軟件控制系統(tǒng)。 設備用途： 用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備?？蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。

Epiluvac 產(chǎn)品通常作為完整的系統(tǒng)交付，包括反應器模塊、氣體輸送系統(tǒng)、過程控制、安全系統(tǒng)、安裝和調(diào)試。每個系統(tǒng)在發(fā)貨前都經(jīng)過廣泛的測試，一旦安裝，交付還包括所有必要的客戶操作和維護培訓。

laurell的WS-650-8 B 型勻膠機結構緊湊，具有優(yōu)良的功能。這款650系列涂布機系統(tǒng) 將 可容納最大200mm晶圓和 7英寸×7英寸 （178mm×178mm）基板，最大轉(zhuǎn)速為12,000 RPM（基于100mm硅片）。

laurell的WS-650-23B型勻膠機結構緊湊，具有優(yōu)良的功能。這款650系列涂布機系統(tǒng) 將 可容納最大150mm晶圓和5英寸×5英寸（127mm×127mm）基板，最大轉(zhuǎn)速為12,000 RPM（基于100mm硅片）。

laurell的H6-15系列勻膠機結構緊湊，具有優(yōu)良的功能，設計為最容易安裝在手套箱中的旋涂機。這款650系列HL涂布機系統(tǒng) 將 可容納高達300mm 的晶圓和9英寸×9英寸（229mm×229mm）基板，最大轉(zhuǎn)速為 12,000 RPM（基于100mm硅片）。

Veeco 的 EPIK® 868 是 LED 業(yè)界最高性能的金屬有機物化學氣相沉積系統(tǒng)MOCVD，可實現(xiàn)出色的均勻性和可重復性，以及低缺陷率。Veeco 提供了一系列 GaN 和 As/P 金屬有機物化學氣相沉積 (MOCVD) 系統(tǒng)，提高吞吐量，同時降低包括顯示器、3D 傳感、LiDAR、微型 LED 顯示器和光學數(shù)據(jù)通信在內(nèi)的各種應用的擁有成本。