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產(chǎn)品概述： 超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)由真空腔室（外延室、進樣室）、樣品傳遞機構(gòu)、樣品架、立式旋轉(zhuǎn)靶臺、基片加熱臺、抽氣系統(tǒng)、真空測量、工作氣路、電控系統(tǒng)、計算機控制等各部分組成。 設(shè)備用途： 脈沖激光沉積(Pulsed Laser DeposiTION，簡稱PLD)是新近發(fā)展起來的一項技術(shù)，繼20世紀80年代末成功地制備出高臨界溫度的超導薄膜之后，它的優(yōu)點和潛力逐漸被人們認識和重視。

MARS iCE120 多片碳化硅外延系統(tǒng)，產(chǎn)能大，6 英寸運營成本低,薄膜和厚膜外延兼容，工藝穩(wěn)定性高。

Hesper I E430R 12英寸單片減壓硅外延系統(tǒng)，優(yōu)異的氣流場和加熱場設(shè)計提供優(yōu)良的工藝性能。

Hesper E230A 12英寸單片常壓硅外延系統(tǒng)，優(yōu)異的氣流場和加熱場設(shè)計提供優(yōu)良的工藝性能。

Hesper Ⅱ E630R plus 12英寸減壓選擇性外延系統(tǒng)，多區(qū)紅外加熱協(xié)同激光微區(qū)補償，溫場均勻可控。

Esther/Eris 系列 8英寸單片常壓/減壓硅外延系統(tǒng)，傳輸系統(tǒng)和工藝模塊設(shè)計可兼容多種工藝用途，友好的人機交互和安全性設(shè)計保障系統(tǒng)穩(wěn)定、安全、高效，具有單腔和多腔兩種機型，可滿足不同客戶需求。